前後処理剤
表は右スクロールできます →
項目選択 | Process プロセス名 |
Use 用途 |
Property 性状 |
Content 処理濃度 |
Time 処理時間 |
Temp. 操作温度 (℃) |
Features 特徴 |
---|---|---|---|---|---|---|---|
EETOREX 12 イートレックス 12 |
Electro-degreasing 電解脱脂 |
Powder 粉末 |
25 - 100 g/L | 1 - 3 min | 25 - 60 | Alkaline electro-cleaner アルカリ電解脱脂 |
|
EETOREX 15 イートレックス 15 |
Acid Cleaning 酸性クリーニング |
Liquid 液体 |
200 - 500 mL/L | 1 - 5 min | 20 - 70 | Acid cleaner, For general applications 酸性クリーナー 汎用タイプ |
|
EETOREX 15PF イートレックス 15PF |
Acid Cleaning 酸性クリーニング |
Liquid 液体 |
20 - 50 mL/L | 1 - 5 min | 20 - 70 | Acid cleaner 酸性クリーナー |
|
EETOREX WAISM イートレックス WAISM |
Silver Anti-Immersion 銀置換防止 |
Liquid 液体 |
25 mL/L | 5 - 20 sec | R.T. | Silver anti-immersion agent for lead frame リードフレーム用Ag置換防止剤 |
|
EETOREX AIG20 イートレックス AIG20 |
Copper Anti-immersion 銅溶出防止 |
Liquid 液体 |
10 - 100 mL/L | 5 - 30 sec | 20 - 70 | Copper anti-immersion agent for direct gold plating on copper substrates Cu溶出防止剤 Cu材直Au可 |
|
BUMPCLEANER DIP バンプクリーナーディップ |
Activation for UBM UBM活性化処理剤 |
Liquid 液体 |
200 - 500 mL/L | 1 - 5 min | 20 - 70 | Acidic Cleaner for wafer, For manual ウエハ―用酸性クリーナー 手動装置用 |
|
BUMPCLEANER AUTO バンプクリーナーオート |
Activation for UBM UBM活性化処理剤 |
Liquid 液体 |
200 - 500 mL/L | 1 - 5 min | 20 - 70 | Acidic Cleaner for wafer ウエハ―用酸性クリーナー 自動機用 |
|
IM FAB Pd-AC2 | Pd Catalyst Activation Pd触媒活性化 |
Liquid 液体 |
Pd: 30 mg/L | 3 - 11 min | 20 - 30 | For Pd catalysts, General applications Pdキャタリスト 汎用タイプ |
|
IM FAB Pd-AC6 | Pd Catalyst Activation Pd触媒活性化 |
Liquid 液体 |
Pd: 30 mg/L | 1 - 10 min | 20 - 30 | For Pd catalyst, Fine patterns ファインパターン用 Pdキャタリスト |
|
JS-WETTER JSウエッター |
Wetting agent 界面活性 |
Liquid 液体 |
4 mL/L | 1 - 10 sec | 10 - 30 | Wetting agent for maintaining wettability of substrates 界面活性剤 濡れ性改善 |
|
SUPER DIP A 10T スーパーディップA 10T |
Silver Anti-Immersion 銀置換防止 |
Liquid 液体 |
10 mL/L | 5 - 30 sec | R.T. | Silver anti-immersion agent Ag置換防止剤 |
|
SUPER DIP F スーパーディップF |
Silver Anti-Immersion 銀置換防止 |
Liquid 液体 |
50 mL/L | 5 - 30 sec | R.T. | Silver anti-immersion agent Ag置換防止剤 |
|
PET-460 | Anti-EBO EBO防止 |
Liquid 液体 |
50 mL/L | 5 - 10 sec | R.T. | Epoxy bleed-out prevention agent エポキシブリードアウト防止剤 |
|
EETOREX 300 イートレックス 300 |
Anti-fungi カビ防止 |
Liquid 液体 |
1 mL/L | - | 5 - 50 | Anti-fungi agent for plating/recovery tanks めっき槽・回収槽のカビ防止剤 |
|
AF-2 | Anti-fungi カビ防止 |
Liquid 液体 |
20 mL/L | - | 15 - 60 | Anti-fungi agent for plating/recovery tank めっき槽・回収槽のカビ防止剤 |
剥離剤
表は右スクロールできます →
項目選択 | Process プロセス名 |
Use 用途 |
Property 性状 |
Content 処理濃度 |
Time 処理時間 |
Temp. 操作温度 (℃) |
Features 特徴 |
---|---|---|---|---|---|---|---|
HAKUREX GS T ハクレックス GS T |
Au剥離 | Liquid 液体 |
200 mL/L | 1 μm/min | 20 - 40 | Cyanide gold stripper(KCN), High-speed, Pb-free, Tl containing シアンAu剥離(KCN) 高速 Pbフリー タリウムタイプ |
|
EETOREX 62 イートレックス 62 |
Au剥離 | Liquid 液体 |
250 mL/L | 1 μm/3min | 60 - 70 | Cyanide gold stripper(NaCN), Mid-speed, Metal-free シアンAu剥離(NaCN) 中速 メタルフリータイプ |
|
HAKUREX Au10 ハクレックス Au10 |
Au剥離 | Powder/Liquid 粉末/液体 |
130 g/L | 1 μm/min | 40 - 60 | Non-cyanide electrolytic gold stripper, For connectors ノンシアンAu電解剥離 コネクター用 |
|
HAKUREX Ag06 ハクレックス Ag06 |
Ag剥離 | Powder 粉末 |
75 g/L | 10 - 60 sec | 25 - 50 | Non-cyanide electrolytic silver stripper, Matt/ semi-bright finish ノンシアンAg電解剥離 無光沢~半光沢用 |
|
HAKUREX Ag07 ハクレックス Ag07 |
Ag剥離 | Powder 粉末 |
75 g/L | 10 - 60 sec | 20 - 40 | Non-cyanide electrolytic silver stripper, Bright finish ノンシアンAg電解剥離 光沢用 |
|
HAKUREX CS ハクレックス CS |
Ag・Cu剥離 | Powder 粉末 |
11.3 g/L | 10 - 120 sec | 20 - 40 | Cyanide silver/copper stripper(KCN), High-speed シアンAg/Cu剥離(KCN) 高速 |
|
HAKUREX Pd10 ハクレックス Pd10 |
Pd剥離 | Liquid 液体 |
100 mL/L | 0.5 - 3 min | 15 - 40 | Non-cyanide palladium stripper for Pd catalyst residue ノンシアンPd剥離 Pdキャタ残渣用 |
|
CHEMISTRIP XO ケミストリップ XO |
Ag・Cu剥離 | Powder 粉末 |
25 g/L | 15 - 60 sec | 40 | Cyanide silver/copper stripper (NaCN), Metal-free シアンAg/Cu剥離(NaCN) メタルフリータイプ |
|
CHEMISTRIP NB ケミストリップ NB |
Au剥離 | Powder 粉末 |
45 g/L | 5 - 30 sec | 30 - 40 | Cyanide selective gold stripper(NaCN), For Ni barrier type シアンAu部分剥離(NaCN) Niバリア用 |
|
MICROFAB 74 ミクロファブ74 |
Cu剥離 | Powder 粉末 |
80 - 120 g/L | 1 - 3 min | 20 - 30 | Non-cyanide copper stripper ノンシアンCu剥離 |
|
MICROFAB Au REMOVER ミクロファブAu リムーバー |
Au剥離 | Liquid 液体 |
原液 | 1 μm/min | 40 - 60 | Non-cyanide electrolytic gold stripper, For wafers ノンシアンAu電解剥離 Wafer用 |
封孔処理、変色防止、変色除去
表は右スクロールできます →
項目選択 | Process プロセス名 |
Use 用途 |
Property 性状 |
Content 処理濃度 |
Time 処理時間 |
Temp. 操作温度 (℃) |
Features 特徴 |
---|---|---|---|---|---|---|---|
EETOREX SA イートレックス SA |
封孔処理 | Liquid 液体 |
100 mL/L | 15 sec | 55 - 65 | Sealing agent, Electrolytic type 封孔処理 電解タイプ |
|
EETOREX WS イートレックス WS |
封孔処理 | Liquid 液体 |
50 mL/L | 0.5 - 4 min | 40 - 45 | Sealing agent, Dip type 封孔処理 浸漬タイプ |
|
SILVERKEEPER シルバーキーパー |
銀変色防止 | Liquid 液体 |
Undiluted 原液 |
30 - 60 sec | 25 - 30 | Silver antitarnish agent, Containing IPA Ag変色防止 IPA含有 |
|
EETOREX 30 イートレックス 30 |
銀ろうエッチング剤 | Liquid 液体 |
100 mL/L | 10 - 120 sec | 25 - 35 | Etching agent for silver solder Agろうエッチング剤 |
|
EETOREX 70 イートレックス 70 |
銀・銅変色除去 | Liquid 液体 |
Undiluted 原液 |
10 - 30 sec | R.T. | Silver/copper antitarnish agent Ag/Cu変色除去 |
|
EETOREX 185 イートレックス 185 |
銀・銅変色防止 | Liquid 液体 |
1 - 20 mL/L | 5 - 30 sec | 20 - 50 | Copper, Copper alloy antitarnish agent, Water-soluble, For L/F Cu,Cu合金変色防止 水溶性 リードフレーム用 |
|
LED GUARD-S1 | 銀変色防止 | Liquid 液体 |
40 mL/L | 10 sec< | R.T. | Silver antitarnish agent Ag変色防止剤 |
|
LED GUARD-100 | 銀変色防止 | Liquid 液体 |
50 mL/L | 10 sec< | 40 | Treatment agent for maintaining silver brightness Ag光沢度低下抑制剤 |