Plating Chemicals
めっき薬品について

Ag

表は右スクロールできます →

項目選択 Process
プロセス名
Ag Content
Ag濃度
(g/L)
Purity
析出純度
(%)
Hardness
硬度
(HV)
As Depo
Deposition Rate
析出速度
Time/µm
(C.D. A/dm2
CD
電流密度
(A/dm2
pH Temp.
操作温度
(℃)
Features
特徴
Ag-10 50 - 70 99.5 100 - 120 20 sec (5.0) 2 - 10 13.0 20 - 25 High-CN, Se & Sb type
高シアン Se,Sb含有
N-BRITE
N-ブライト
25 - 40 99 - 99.5 145 - 165 2 min (1.0) 0.2 - 1.5 12.2 - 12.9 20 - 25 High-CN, Bright finish, High hardness,
Sb type
高シアン 光沢 高硬度 Sb含有
N-BRITE HS
N-ブライトHS
30 - 80 99 - 99.5 150< 5 sec (20) 5 - 25 >13.0 35 - 45 High-CN, High speed, Bright finish,
High hardness, Sb Type, Insoluble anode
高シアン 高速 光沢 高硬度 Sb含有
不溶性アノード使用
LED BRIGHT Ag-20 10T 25 - 120 99.99 80 - 100 1 min (1.5) 1 - 12 12.5 - 13.0 15 - 40 High-CN, Brightness:0.8-1.2, Se-Type,
for LED
高シアン 光沢度:0.8~1.2 Se含有 LED向け
PRECIOUSFAB Ag2000
プレシャスファブ Ag2000
40 - 80 98 - 99 150 - 2 sec (50) 50 - 120 8.4 45 - 60 Low-CN, High-speed, Se & Sb type
Insoluble anode
低シアン 高速タイプ Se,Sb含有
不溶性アノード使用
SP-4000 40 - 80 99.99 80 - 100 1 sec (100) 40 - 200 8.5 40 - 80 Low-CN, For L/F, High Speed, Matt/Semi bright finish
低シアン L/F向け 高速 無光沢~半光沢外観
LED SILVER 4000 40 - 80 99.99 100 - 120 0.5 sec (50) 30 - 150 8.5 40 - 80 Low-CN, High brightness & reflectance,
Se-Type, High-CD, For LED
低シアン 高光沢 高反射率 Se含有
高電流密度 LED向け
LED SILVER 5000 40 - 100 99.99 100 - 120 0.5 sec (50) 20 - 100 9.0 35 - 55 Low-CN, High brightness & reflectance,
Se-Type, Low-CD, For LED
低シアン 高光沢 高反射率 Se含有
低電流密度 LED向け
MetSil HR-100 40 - 80 99.9 80 - 100 1.4 sec (70) 50 - 100 8.5 50 - 70 Low-CN, Rough surface, Insoluble anode
低シアン 粗化表面 不溶性アノード使用
MetSil G100 10 92 - 97 200 - 240 1 min (3.0) 2 - 4 12.3 - 12.7 20 - 30 High-CN, High hardness, Low contact resistance
高シアン 高硬度 低接触抵抗
PRECIOUSFAB Ag4730
プレシャスファブ Ag4730
30 99.9 110 - 130 100 sec (1.0) 0.5 - 6.0 11.0 40 - 60 Non-CN, Semi-bright, Bi-Type
ノンシアン 半光沢 Bi含有
PRECIOUSFAB Ag4700
プレシャスファブ Ag4700
30 99.9 80 - 100 100 sec (1.0) 0.5 - 3.0 11.0 40 - 60 Non-CN, Matt
ノンシアン 無光沢

Plating Chemicals
めっき薬品一覧